为激发产业新活力,注入太仓发展新动能,市科技局携手沪上高校院所,共同打造产学研合作的桥梁,致力于将科研成果转化为推动产业发展的强大动力。
本次,我们特别呈现一批来自中国科学院上海高等研究院的创新项目,不仅与太仓市的产业发展方向高度契合,更是绿色科技与产业升级的积极探索。
若您对以下项目在成果转化方面有需求,请与我们联系!(联系方式见文末)
1. 高浓度臭氧水的制备技术
主要特点:
(1)在非密闭空间中,无任何刺激性气味以及毒性气体释放,副产物仅为氧气,无二次污染;
(2)解决了臭氧利用的方向性问题,且保留了臭氧强效消毒、灭菌的使用效果;
(3)采用新型特有溶气技术,臭氧无逸散、水溶液浓度及利用率高;
(4)装备能耗低、运行费用低。
该设备突破了目前技术难题──采用普通臭氧气体浓度发生器获得高浓度臭氧水的突破性技术,让气水浓度比,可大幅度调节,给臭氧水应用带来了纵深范围的突破,大大拓宽了臭氧技术的应用领域。
应用范围:
(1)电子芯片、硅片清洗,臭氧冰用于水产保鲜、冷链病毒杀灭,医疗器械消毒,农业病虫害杀灭替代农药,饲料、粮食及食物中去除黄曲霉毒素、呕吐毒素等,污泥处理,土壤修复等领域;
(2)公共卫生消毒:街道洒水车洒水,交通通道及车辆,社区,商贸市场,商业楼宇;
(3)果蔬清洗去农残,清洗伤口、皮肤病,防霉,饮用水净化,洗浴美容保健,除臭祛异味,垃圾转运站及公厕除臭,养殖场屠宰场消毒,大水体治理消减底泥、除藻;
(4)工业:化学反应做氧化剂,难降解废水处理,原料产品漂白。
2. 臭氧水半导体高端清洗应用技术
(1)半导体清洗主要是针对不同的工艺需求对晶圆表面进行无损清洗以去除半导体制造过程中的颗粒、自然氧化层、金属污染、有机物、牺牲层、抛光残留物等杂质。
(2)晶圆制造产线上通常以湿法清洗为主,少量特定步骤采用湿法和干法清洗相结合的方式互补所短,构建清洗方案。未来清洗设备的湿法工艺与干法工艺仍将并存发展,均在各自领域内向技术节点更先进、功能多样化、体积小、效率高、能耗低等方向发展,在短期内湿法工艺和干法工艺无相互替代的趋势。目前湿法清洗是主流的清洗技术路线,占芯片制造清洗数量90%以上。
(3)高浓度臭氧水是一种强氧化剂,可以有效去除半导体芯片表面的有机和无机污染物。相比其他清洗技术,高浓度臭氧水具有清洗效果好、成本低、安全环保等优点。
应用范围:
(1)半导体芯片清洗。
(2)光伏电池板硅片清洗。
(3)玉米饲料、木耳清洗。
3. 应用臭氧水处理污水、污泥技术
4. 铝合金传热管的表面改性和耐海水腐蚀研究与开发应用
已达到的技术指标和参数:(1)采用5052铝合金,处理费用为材料自身价值的5%;(2)处理过的传热管通过了至少144小时铜加速醋酸盐雾腐蚀实验(相当于中性氯化钠盐雾实验1152小时);(3)处理方法可采用液相浸渍或喷淋法进行,适用于大规模工业化生产;(4)考察的铝合金基材选择覆盖了2XXX、3XXX、5XXX、6XXX系列;(5)得到的铝合金处理表面光滑,经动态结垢测试,具有抗垢性能;(6)经柠檬酸洗除沉积垢质后,该处理表面仍具有腐蚀和抗垢性能。冲刷腐蚀测试结果还表明,基底铝合金本身耐蚀性越高,经改性后耐蚀性也越高。
5. 高效新型电化学抗垢技术
高校新型电化学系统,将阴极生成的碱性溶液引入到一独立的诱导结晶器内进行结晶,这不仅大大提高了垢质的沉积面积,突破了采用阴极作为沉积面积的限制,而且不存在极限沉积速率问题,大大提高处理效率,并可有效降低电极所需面积。技术优势:(1)功能相同条件下,新系统较目前系统减少10倍以上的电极面积;(2)A3钢腐蚀速率小于0.125mm/a。
6. 高效新型磁性诱导结晶抗垢技术
7. 小型化纳米臭氧溶解设备
应用范围:(1)自来水厂,污水厂。(2)家用、食堂用,去农残。
8.催化氧化难降解工业污水技术
联系方式
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来源:太仓科技